制氮裝置等氮氣純化設備

制氮裝置是制取氮氣的設備，在需求高純度氮氣的情況下需要安裝純化設備才能得到需要的高純度氮氣。氮氣純化裝置是我公司研發生產的高端氣體純化設備，用于工業上氮氣除雜，主要除去的是氮氣中的氧氣，以提高氮氣的純度。氮氣純化裝置廣泛應用于半導體制造、醫藥、化工、冶金、電力部門等領域。

氮氣純化設備是以變壓吸附制得的粗氮為原料，經加氫催化除氧，冷凝水吸附兩級干燥除塵，去除氮氣中的氧、水汽和塵埃等雜質，從而獲得高純度的氮氣。其人口的粗氮純度要求≥98%，出口精氮的純度≥99.999%，氧含量≤3μm，露點≤-65℃。

第1步是除氧。粗氮與添加的氫氣相混合后進人除氧器，在催化劑的作用下，使粗氮中的雜質氧與氫反應生成水汽，除氧器溫度控制在80～100℃，這樣可使反應生成的水汽全部被氣流帶走，從而保證催化劑不致受到水汽影響而中毒，可無需再生處理長期使用。

第2步是冷凝除塵，氮氣和水汽先經過水冷卻器冷卻到常溫，然后進入冷凍式干燥器進一步冷卻到露點以下，再進入汽水分離器，除去氣體中冷凝下來的冷凝水。

第3步是深度干燥。經冷凝除濕后的氮氣的露點仍然不能滿足需要，必須繼續進入分子篩吸附干燥器深度干燥，除去微量的水分，使露點進一步降低到設計的要求。

第4步是過濾除塵。干燥吸附后的氮氣再經過氣體過濾器，除去分子篩粉末等雜質，便得到高純度、潔凈的精氮，直接輸送到爐區作安全氣、密封氣，或與氫氣混合后作為保護還原氣體。

瑞氣氮氣純化裝置

NCHa型氣體純化裝置

簡潔、高效的氮氣提純方式，本技術適用于簡單分子氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳氣體和惰性氣體氬、氦、氪、氙、氖氣，以及低碳直鏈飽和碳氫化合物甲烷、乙烷、丙烷、丁烷等等氣體，加氫脫除氧雜質或者加氧脫除氫雜質，獲取高純氣體。
NCHa型氣體純化裝置系采用催化反應技術，利用在催化劑參與下，促進氣體中的氧氣雜質與加入的氫氣發生化學反應而生成水，實現脫除氧雜質的目的。

JNCH型節能型氣體純化裝置

高效節能的氣體純化工藝，尤其適合于制取超高純度的“黃金氣體”氪、氙、氖氣的純化處理過程。
該裝置采用具有高效加氫脫氧化性能的JHDO型催化劑和具有既能脫氧又能脫氫的雙功能SODH型吸氧脫氫劑，在配置高精度自動加氫系統控制下，實現既脫除氣體中的氧雜質也徹底消除加入的殘留氫氣，從而獲得氧、氫雜質含量均＜1ppm的高純氣體。
此氣體純化裝置同樣適用于NCHa型裝置的氣體種類范圍使用。
由于該節能型純化裝置生產工藝流程中所使用的催化劑都不需要再生處理操作，從而既避免了寶貴產品再生氣的排放，又節省大量再生加熱能耗，可以降低運行成本達30%以上，因此，此裝置尤其是適合于制取超高純度的“黃金氣體”氪、氙、氖氣的純化處理過程。

NCHc型氣體純化裝置

較高純度氮氣再提純，適用于較高純度原料氣或小氣量規模氮氣純化裝置。
裝置采用化學吸收脫氧技術脫除氣體中的氧雜質，獲取高純氣體。
它適用于原料氣體純度≥99.9%的氣體。通常為深冷空分氧氣站產出的污氮氣體進行進一步脫氧處理，獲取高純（99.9995%～99.9999%N2）氮氣，或者深冷空分制氮設備經多年使用后，產出氮氣純度下降，需要進一步脫氧純化處理，獲取高純氮氣。
由于本純化裝置采用新穎的并聯再生——串聯工作獨特工藝過程，解決了由于催化劑具有的“溶氫”特性而造成氫氣污染氣體產品的難題，實現高純氣體產品中含氧、氫雜質量均小于1ppm的指標，同時達到既節能又降低純化運行成本，同樣本裝置也適用于NCHa型氣體純化裝置的氣體種類范圍。

NCRs(NCRd)氣體純化裝置

提純無需備氫源，專門為無氫氣或不使用氫氣的生產工藝而設計的氣體純化設備
本氣體純化裝置是專門為無氫氣或不能使用氫氣的用戶設計的氣體純化裝置，它采用燃燒法脫氧，讓氣體中的氧雜質與3093脫氧劑在350℃下發生燃燒（氧化）反應，生成二氧化碳，從而除去氧雜質。
通常適用于含有雜質氧氣≤0.1%的氮、二氧化碳等氣體進行脫氧處理，可以獲得高純氣體產品。

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